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sputter deposition

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溅射淀积
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abstract:
Sputter deposition is a physical vapor deposition (PVD) method of depositing thin films by sputtering. This involves ejecting material from a "target" that is a source onto a "substrate" such as a silicon wafer.

网络释义
溅射淀积
... sputter deposition 溅射淀积 triode sputter 三极管溅射装置 metal sputter 金属膜溅射机 ; 属溅镀机 ...
溅射沉积
...分子束外延 (Molecular Beam Epitaxy,MBE)、 脉冲激光沉积(Pulsed Lased Deposition, PLD)和 各种 溅射沉积(Sputter Deposition) 化学沉积方法主要包括 化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition, CVD), 化学溶液沉积(Chemical Solution Deposition), 电化学...
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