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rf sputtering
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https://www.dute.org/dict/rf_sputtering复制链接 射频溅射
网络释义
射频溅射
射频溅射（RF sputtering） 用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统，由于常用的交流电源的频率在射频段，如13.56MHz，所以称为射频溅射。
磁控溅射法
...学法两大类，干法包括真空蒸发、气相沉积（物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（cvD））、溅射（射频磁控溅射法（RF Sputtering）、等离子体溅射）以及离子镀等方法，N．Y：Kimd等【l】通过磁控溅射法制备得到TiNz-Si02双层抗静电薄膜。
射频磁控溅射
目前常用的制备 PZT 铁电薄膜的方法有溶胶凝胶法 (Sol-gel) 、射频磁控溅射(RF Sputtering)、金属有机物化学气相淀积(MOCVD) 、脉冲激光 沉积(PLD) 、分子束外延(MBE) 等。
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