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rapid thermal processing

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快速高温处理,快速热处理,快速热工艺
查看英英释义
abstract:
Rapid Thermal Processing (or RTP) refers to a semiconductor manufacturing process which heats silicon wafers to high temperatures (up to 1,200 °C or greater) on a timescale of several seconds or less. During cooling, however, wafer temperatures must be brought down slowly so they do not break due to thermal shock.

网络释义
快速热处理
其中快速热处理(rapid thermal processing)之相关设备,近年来在大面积,高密度及单晶圆处理(single-wafer processing)的趋势下日形重要.
快速高温处理
... 全球微蚀刻技术(Microlithography) 快速高温处理(Rapid Thermal Processing) 蚀刻(Etching) ...
温制程
即使迅速高温制程(rapid thermal processing,rtp)之事情温度规模与多晶硅及磊晶硅制程有部分叠合,其本质差异却极大。
即使快速高温制程
高温制程_互动百科 硅两种薄膜的应用状况虽然不同,却都是在类似的制程反应室中经高温(600℃至1200℃)沉积而得。 即使快速高温制程(Rapid Thermal Processing, RTP)之工作温度范围与多晶硅及磊晶硅制程有部分重叠,其本质差异却极大。RTP并不用来沈积薄膜,而是用来修正
常用短语
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