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hot filament chemical vapor deposition

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热丝化学气相沉积

网络释义
热丝化学气相沉积
...hot filament chemical vapor deposition (HFCVD); diamond films; WC−Co substrates; deposition parameters [gap=25582]关键词:热丝化学气相沉积;金刚石薄膜;WC−Co硬质合金基体;沉积参数 ..
化学气相沉积法
...导体性质的研究 本论文简要叙述了金刚石薄膜的研制进展和应用,介绍了用化学气相沉积法(Hot Filament Chemical Vapor Deposition)在不同的衬底上的金刚石薄膜的制备方法和形核,并对Si、Ni、Cu三种不同的衬底的金刚石膜研究了如何增大形核密度、提高形核质量。
化学气相沉积
首先,对实验中所用到的热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition, HFCVD)设备进行了改造与设计。其次,以β-SiC和β-Si3N4晶体结构为基础,建立SiCN的基本模型。
丝化学气相沉积
首先,对实验中所用到的热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition, HFCVD)设备进行了改造与设计。其次,以β-SiC和β-Si3N4晶体结构为基础,建立SiCN的基本模型。
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