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electron beam lithography

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电子束光刻:一种高精度的微纳米制造技术,利用电子束在材料表面进行精确的图案绘制。

网络释义
电子束曝光
电子束曝光 (electron beam lithography)指使用电子束在表面上制造图样的工艺,是 光刻技术的延伸应用。
电子束蚀刻
... electron beam imaging 电子束成象 electron beam lithography 电子束蚀刻 electron beam mask 电子束掩膜 ...
电子束石版印刷术
... electron beam imaging 电子束成象 Electron Beam Lithography 电子束石版印刷术 electron beam lithography 电子束蚀刻 ...
电子束微影
(4)电子束微影(Electron beam lithography) 这部分主要介绍Ying Xu等人的论文【231。他们利用电子束显影法(Electron-beam lithography,EBL)在硅基底上制备二维光子晶体。
常用短语
更多常用短语
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