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chemical vapour deposition

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化学蒸汽沉积

网络释义
化学气相沉积法
研究人员以化学气相沉积法(chemical vapour deposition),将直径2至3 nm的纳米碳管横放在刻有凹槽结构(trench)的二氧化硅基板上,使碳管的一部份横跨凹槽上方,再加入钯(palladium)作为...
化学气相沉积
...波   【摘要】:基于等离子体技术的物理气相沉积(Physical Vapour Deposition, PVD)和化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition, CVD)是目前低温制备薄膜材料最常用的方法,等离子体的物理特性对薄膜沉积速率和薄膜质量有直接影响。
沉积法
研究人员以化学气相沉积法(chemical vapour deposition),将直径2至3 nm的纳米碳管横放在刻有凹槽结构(trench)的二氧化硅基板上,使碳管的一部份横跨凹槽上方,再加入钯(palladium)作为...
常用短语
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