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Reactive magnetron sputtering

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反应磁控溅射

网络释义
溅射法
...Kivaisi等人n劬以纯金属钒(纯度99.7%)为原料,采用直流(Dc)和射频(RF)反应磁控溅射法(Reactive magnetron sputtering)在普通玻璃衬底上制备V02薄膜。
反应磁控溅射
1.4.1反应磁控溅射(Reactive Magnetron Sputtering) 反应磁控溅射法利用辉光放电的原理进行工作,溅射过程中要用到时气和02气,舡作为溅射气体,02作为反应气体,通过流量控制器分别...
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