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输入要查询的单词：
RF Magnetron Sputtering
网络释义
射频磁控溅射
它包括射频磁控溅射、反应溅射、多元靶溅射及离子束溅射等，通常使 用直流溅射、射频磁控溅射(RF magnetron sputtering)和离子束溅射来制备PZT 薄膜。
射频磁控溅射法
最高3 制备方法目前制备锆钛酸铅镧铁电薄膜的方法有多种 ,主要有射频磁控溅射法 (RF magnetron sputtering) ,脉冲激光沉积 (PLD)法 ,金属有机物化学气相沉积 (MOCVD)、溶胶 2 凝胶法 ( sol2gel) ,分子束外延法 (MBE) ,金属有机物热解法 (...
溅射技术
2．1．3射频磁控溅射技术（RF magnetron sputtering） 在靶阴极内侧装永久磁铁，磁铁分别放置在靶的中心和靶的边缘，且极性相反，从而产生平行于靶表面的磁场分量B，并垂.
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