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Pulsed Laser Deposition
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https://www.dute.org/dict/pulsed_laser_deposition复制链接 脉冲激光沉积：一种薄膜制备技术，通过使用高能脉冲激光束轰击靶材，使靶材表面的物质气化并沉积在基片上，从而形成薄膜。
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abstract:
A plume ejected from a SrRuO3 target during pulsed laser deposition.
网络释义
脉冲激光沉积
脉冲激光沉积（Pulsed laser deposition）：利用脉冲激光使靶体表面高温及熔 蚀产生高温高压等离子体，并定向膨胀发射到基材表面而形成薄膜。
脉冲激光沉积法
...激光沉积法制备纳米金刚石薄膜 第一节 脉冲激光沉积反应实验的实验装置 本实验是采用脉冲激光沉积法（pulsed laser deposition，PLD）在高真空氧气氛围下，制各纳米金刚石薄膜。
技术
本文通过脉冲激光沉积技术(Pulsed Laser Deposition)在不同衬底上合成了多种准一维ZnO纳米结构,以及利用射频反应磁控溅射技术(Reactive Radio-Frequency Magnetron Sputtering)在不同...
采用脉冲激光沉积法
...激光沉积法制备纳米金刚石薄膜 第一节 脉冲激光沉积反应实验的实验装置 本实验是采用脉冲激光沉积法（pulsed laser deposition，PLD）在高真空氧气氛围下，制各纳米金刚石薄膜。
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