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Ion Beam Sputter Deposition
网络释义
子溅镀
h)离子溅镀(Ion Beam Sputter Deposition，IBSD) →→→ 离子溅镀IBSD 是指利用离子源以800V 到1500V 之离子束撞溅膜 材料(此膜材料称...
离子束溅射沉积
离子束溅射沉积
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