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IC Wafer Fabrication Process Flow
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...le of vapor phase epitaxy : SiCl 4 + 2H 2 Si + 4 HCl ( @1250 o C ) IC 晶圆制造流程( IC Wafer Fabrication Process Flow ) IC 晶圆制造技术( IC Wafer Fabrication Techniques ) IC 晶圆制造技术( IC Wafer Fabrication Techniques ) Metal Gate MOS P...
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