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Chemical Mechanical Planarization CMP
网络释义
化学机械平坦化
在众多的平坦化技术中，目前唯一能获得全局平面化效果的是化学机械平坦化（Chemical Mechanical Planarization CMP）。 随着集成电路逐渐采用小尺寸、高聚集化的多层立体布线后，光刻工艺中对解析度和焦点深度（即景深）的限制越来越高，因此对硅片...
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