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Atomic layer deposition
查词链接：
https://www.dute.org/dict/atomic_layer_deposition复制链接 原子层沉积：一种利用自限制化学反应在表面上以单层方式沉积薄膜的技术。
查看英英释义
abstract:
Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique that is based on the sequential use of a gas phase chemical process. The majority of ALD reactions use two chemicals, typically called [These precursors react with a surface one at a time in a sequential, self-limiting, manner.
网络释义
原子层沉积
原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)作为一种基于表面自限制反应的化学气相沉积技术,具有优异的均匀一致性和亚纳米厚度可控性,可对微纳米颗粒精确控制包覆厚度、...
原子层沉积技术
...面复合速率（SRV），提高太阳能电池的短路电流和开路电压，进而使光电转换效率提高。原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition，ALD）是一项薄膜沉积的新工艺，用它来沉积的氧化铝钝化材料在太阳能电池中得到了应用，并在实验室得到了较高的转化效率。
原子层沉积法
...的材料沉积，但仍具有相同的沉积厚度，改善阻抗层的一致性和均匀性，就45奈米制程来说，原子层沉积法（Atomic Layer Deposition，ALD）是较为适用的，利用Molecular-Level的控制，可以达到100％的Step Coverage...
常用短语
- Atomic Layer Deposition System原子层沉积系统；沉积系统
- ALD-atomic layer deposition原子层沉积技术
- Atomic Layer Chemical Vapor Deposition或原子层化学气相沉积；也称为原子层化学气相沉积
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